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第1126章 没有集成基带,所以功耗更高

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    第1126章 没有集成基带,所以功耗更高 (第2/3页)



    俞学林刚准备走,陈星又叫住了他。

    “等一下,H3的量产情况怎么样了?”

    “TSMC那边28纳米HPM工艺的产能,去年咱们就预定了,晶圆供应没问题,已经开始量产了。”俞学林说,“陆教授那边一直在调功耗和发热。”

    “主要是主频拉到2.6GHZ有点太高了。”

    陈星沉吟了一下。

    H3是凌霄系列的第三代芯片,也是红星今年下半年所有旗舰产品的核心。

    这颗芯片的性能跑分确实比较OK,纸面参数比骁龙800还要强一点点。

    但是!

    漏电问题在HPM工艺下,也开始随着主频拉高而暴露了。

    想了想,陈星按了一下桌面上的通话器。

    “小沈,去请陆教授过来一趟。”

    大约十坤分后,陆远江才过来,进门看到俞学林也在冲着他点了点头,然后说道:

    “陈总,不好意思,实验室那边在跑一组频率稳定性测试,走不开。”

    “没事,坐。”

    陈星指了一下沙发,陆远江在俞学林旁边坐下。

    “陆教授,俞总刚跟我说了H3的热阈值调试还在进行,目前还有问题?”

    陆远江点了下头,没有任何遮掩。

    “是的,坦白说问题比我预期的要顽固一些。”

    “具体说说。”

    “陈总,那我直说了,芯片主频拉到2.6GHZ以后,功耗和发热确实到了一个比较极限的位置。”

    “芯片主频越高,需要的核心电压越高。CPU的功耗和电压的平方成正比,同时和频率成正比。”

    “HPM工艺本身的特点就是静态漏电流比LP工艺更大,主频越往上

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