第1621章 从40nm到27nm的跨越 (第2/3页)
无形的压力瞬间消失，张汝宁如蒙大赦，立刻接上话题：
“我们刚刚进行的测试，就是在193nm的DUV光源条件下，对比新旧两种物镜方案的性能……”
栾文杰并非光学系统或者半导体出身，之前也没看过光刻机被大卸八块之后的样子，所以下意识来到体积更大的1500模组旁边，左右看了一圈然后才瞄向另一边体积更加紧凑的1800模组。
“体积大了这么多？”
显然，他是把更大的模组当成了更先进的。
当然传统上，光刻系统的物镜组也确实是性能和体积成正比。
只不过常浩南的路子实在不同寻常。
张汝宁赶紧解释：
“我们采用了火炬实验室提供的负折射材料，结合常院士提出的‘折反镜一体设计’理念，大大简化了物镜组的光学设计。”
听到“简化”两个字，栾文杰才意识到自己把目标给搞反了。
好在还没把脸给丢出去，所以又故作沉着地踱步到更小的那个模组旁边，微微俯身，似乎想从眼前繁复的结构中找出些许相似之处。
只是理所当然地失败了。
“传统的折反式物镜组内部包含超过三十片精密镜片，用于校正像差、色差，并尽可能提升数值孔径……不仅结构复杂，体积和重量很大，而且其中的反射元件对于加工精度的要求非常苛刻。”
张汝宁进一步介绍道：
“而在更新的1800物镜组里面，大部分功能被集成在少数几片核心镜片上，独立光学元件的数量缩减到14个，所以体积比老型号小了一半以上……”
“……”
就在这时，一直坐在控制电脑前的何修军突然站了起来。
“张组长，最新一组测试数据已经处理完成！”
他走到张汝宁同时也是走到栾文杰身边，汇报道：
“193nm波长下，1800物镜组的等效数值孔径（NA）实测最大值为1.8009，最小值为1.7996，NA一致性达到±0.0013，该数值远优于我们设计指标要求的±0.006，也完全符合设计方案中理论NA值1.80的预期……”
“全视场振幅极化量RMS（均方根值）实测最大11.85%，最小11.80%……”
“全视场相位延迟量RMS实测最大3.77nm，最小3.45nm……”
实际上，这里面的多数参数都是之前就已经测完的，而且往常也不需要他专门汇报一遍。
报告导出来，大家分别翻阅就行了。
但此刻面对亲临一线的栾文杰，这份详尽到几乎冗余的数据汇报，就显得格外“恰到好处”且分量十足。
“等等。”
果然，栾文杰打断了后续的参数报告。
他既然是专程来考察光刻机，那对于这些基本参数自然有所了解。
虽然被一大堆突然涌入的数据搞得有些头脑发胀，但还是敏锐地捕捉到了其中最关键的部分。
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